寡核苷酸合成用溶剂和试剂
- 乙腈，最大水含量0.003%，DNA合成级
- AMA (快速脱保护溶液) (30%氨水和40%甲胺, 50:50, v/v)
- 氨水，32% w/w溶液，EssentQ®
- 氧化剂 0.02 M (THF/水/吡啶/碘, 66/12/22/0.51, v/v/v/w)
- 氧化剂 0.02 M (THF/水/吡啶/碘, 90.6/9.0/0.4/0.51, v/v/v/w)
- 氧化剂 0.1 M (THF/水/吡啶/碘, 77/2/21/2.54, v/v/v/w)
- 氧化剂0.05 M, 寡核苷酸合成用(水/吡啶/碘, 10/90/1.27, v/v/w, ÄKTA®和OligoPilot®)
- BTT 活化剂，0.3M (5-(苄硫基)-1H-四唑 )乙腈溶液
- Cap A (乙腈/乙酸酐, 75/25, v/v)
- Cap A (THF/2,6-二甲基吡啶/乙酸酐, 80/10/10, v/v/v)
- Cap A, 寡核苷酸合成用(乙腈/N-甲基咪唑, 80/20, v/v, ÄKTA®和OligoPilot®)
- Cap B (乙腈/2,6-二甲基吡啶/甲基咪唑, 50/30/20, v/v/v)
- Cap B (THF/甲基咪唑, 84/16, v/v)
- Cap B1, 寡核苷酸合成用(乙腈/乙酸酐, 60/40, v/v, ÄKTA®和OligoPilot®)
- Cap B2, 寡核苷酸合成用(乙腈/吡啶, 40/60, v/v, ÄKTA®和 OligoPilot®)
- DCA脱帽剂(甲苯)
- DCI 活化剂，0.25M (4,5-二氰基咪唑 )乙腈溶液
- 脱保护混合溶液，二氯甲烷中3% (v/v) DCA
- 脱保护混合溶液，二氯甲烷中3% (v/v) TCA
- 脱保护混合溶液，甲苯中10% (v/v) DCA
- ETT 活化剂，0.3M 5-(乙硫基)-1H-四唑 )乙腈溶液
